Асоціація
Українсько-Китайського
співробітництва
  • Новини / Загальні новини

    У Китаї створять Українсько-китайський інститут образотворчого мистецтва за підтримки НАОМА

    2021-04-23

    Національна академія образотворчого мистецтва й архітектури (НАОМА) створює спільний Українсько-китайський інститут образотворчого мистецтва у Китайській Народній Республіці. Про це повідомив виконувач обов’язків ректора НАОМА Остап Ковальчук на пресконференції в Укрінформі, присвяченій змінам у мистецькій освіті в Національній академії образотворчого мистецтва й архітектури.

    «Ми активно працюємо над проєктом створення спільного Українсько-китайського інституту образотворчого мистецтва у КНР. Цей проєкт є перспективним, тому що дасть можливість залучити більшу кількість студентів для навчання в нашій академії, навчати студентів на території Китаю, що є там трендом, а нашим викладачам, аспірантам буде можливість працювати за кордоном, що є однією з вимог сучасної освіти. В цьому навчальному закладі заплановано створення інноваційної бази для стажування наших науковців. Це обумовлено європейським і американським досвідом, що кількість китайських студентів у світі неухильно збільшується», – сказав ВО ректора.

    Остап Ковальчук повідомив, що вже розроблено програми й укладено списки викладачів для спільного українсько-китайського вишу, а набирати студентів до нього планують уже з наступного навчального року. Адже це напряму пов’язано з наповненням спеціального фонду академії, який формується саме коштами студентів-контрактників за освітні послуги, що є основним джерелом наповнення спецфонду.

    Довідково: Національна академія образотворчого мистецтва й архітектури – єдиний в Україні багатопрофільний вищий навчальний заклад художньої освіти, що має академічне спрямування і готує фахівців живопису, скульптури, графіки, театрально-декораційного мистецтва, архітектури, реставрації творів мистецтва, мистецтвознавства та артменеджменту.

    Напишіть відгук

    Your email address will not be published. Required fields are marked *